400-686-0188
Safematic GmbH在瑞士的萊茵河谷制造技術(shù)領(lǐng)先的碳和濺射鍍膜機(jī),該地區(qū)以真空和鍍膜技術(shù)的專業(yè)知識(shí)而聞名。Safematic研發(fā)團(tuán)隊(duì)的關(guān)鍵成員在EM和薄膜涂層方面擁有多年經(jīng)驗(yàn)。安全專家基于這些專業(yè)知識(shí)和知識(shí),在每個(gè)涂層頭中設(shè)計(jì)了關(guān)鍵組件,從而優(yōu)化了儀器性能,同時(shí)最大程度地減少了停機(jī)時(shí)間并提高了維修便利性。
Safematic CCU-010 涂層設(shè)備
CCU-010是一個(gè)緊湊,全自動(dòng)的濺射鍍膜機(jī)或碳鍍膜機(jī),使用非常簡(jiǎn)單。由于獨(dú)特的插入式設(shè)計(jì),該設(shè)備可通過(guò)簡(jiǎn)單地改變工藝頭就可輕松配置為濺射或汽化。在涂覆之前或之后,可以施加等離子體處理。模塊化設(shè)計(jì)可輕松避免金屬和碳沉積之間的交叉污染。
CCU-010具有靜態(tài)樣品臺(tái),包括高度調(diào)節(jié)和傾斜度。它可以配備一個(gè)可選的變速旋轉(zhuǎn)平臺(tái)或一個(gè)旋轉(zhuǎn)球形平臺(tái),每個(gè)平臺(tái)都可以容納不同類型的樣品和。對(duì)于所有樣品臺(tái),膜厚監(jiān)測(cè)均作為標(biāo)準(zhǔn)配置。
高性能濺射,碳涂層和等離子處理
專利碳盤管–多達(dá)50個(gè)碳涂層,無(wú)需用戶干預(yù)
獨(dú)特的即插即用濺射和碳涂層模塊
一流的真空性能和快速的抽空時(shí)間
緊湊,可靠且易于維護(hù)
雙位置膜厚監(jiān)測(cè)儀,可容納不同尺寸的樣品
主動(dòng)冷卻的噴頭可確保涂層質(zhì)量并延長(zhǎng)運(yùn)行時(shí)間
CCU-010涂層設(shè)備有兩種型號(hào)。CCU-010LV精細(xì)真空基座為SEM和EDX的常規(guī)高質(zhì)量濺射和碳鍍膜而設(shè)計(jì),而CCU-010HV高真空系統(tǒng)涵蓋了最高級(jí)的SEM,TEM和薄膜應(yīng)用。模塊化的設(shè)計(jì)使以后可以輕松地將其從低真空單元轉(zhuǎn)換為高真空單元。與材料,表面和輪廓有關(guān)的徹底設(shè)計(jì)可大大縮短加工時(shí)間。兩個(gè)附加的標(biāo)準(zhǔn)真空法蘭允許連接第三方設(shè)備。
濺射模塊 SP-010 & SP-011
兩個(gè)濺射模塊均插入CCU-010 LV和CCU-010 HV基本單元,即可使用。每個(gè)噴頭模塊均包含用于高質(zhì)量濺射鍍膜的所有關(guān)鍵組件,包括磁控管,靶材,百葉窗,過(guò)程壓力調(diào)節(jié)器和電力電子系統(tǒng)。此外,創(chuàng)新的接口可在幾秒鐘內(nèi)將電源,氣體供應(yīng)和信號(hào)傳輸連接到CCU-010基本單元(推入配合)。
SP-010和SP-011濺射模塊具有有效的主動(dòng)冷卻功能,連續(xù)噴涂時(shí)間長(zhǎng)達(dá)50分鐘-非常適合需要較厚膜的應(yīng)用。 多種濺射材料可用于SEM,FIB和各種薄膜應(yīng)用。
SP-010濺射頭的磁控管旨在優(yōu)化目標(biāo)用途。這使其成為用于電子顯微鏡中細(xì)晶粒貴金屬膜的理想工具。對(duì)于最小的晶粒尺寸涂層,需要渦輪泵送的CCU-010 HV基本單元。
SP-011濺射裝置的磁控管設(shè)計(jì)用于大功率濺射和多種涂料。推薦該頭用于要求比標(biāo)準(zhǔn)EM應(yīng)用更高的涂覆速率和更厚的膜的薄膜應(yīng)用。SP-011與CCU-010HV結(jié)合使用可滿足諸如DLC,ITO或鐵磁濺射材料涂層等具有挑戰(zhàn)性的應(yīng)用。
CT-010 碳纖維蒸發(fā)模塊
這個(gè)緊湊的插入式碳蒸發(fā)模塊為碳涂層樹立了新標(biāo)準(zhǔn)。該頭插入CCU-010 LV和CCU-010 HV基本單元,即可立即使用。應(yīng)用包括SEM,TEM和任何其他需要高質(zhì)量碳膜的過(guò)程。CT-010使用具有專利,獨(dú)特且技術(shù)領(lǐng)先的碳纖維繞線系統(tǒng)。這樣就可以進(jìn)行多達(dá)50個(gè)涂層,而無(wú)需更換碳源。一段碳纖維蒸發(fā)后,新的一段會(huì)自動(dòng)前進(jìn),用過(guò)的纖維會(huì)掉落到方便的集水盤中。除了易于使用之外,自動(dòng)繞線系統(tǒng)還允許在一個(gè)處理周期內(nèi)可控地沉積幾乎任何厚度的碳膜。容易選擇的涂層模式可以執(zhí)行安全的涂層,從對(duì)溫度敏感的樣品上的薄膜進(jìn)行溫和的蒸發(fā)到在FIB應(yīng)用中的厚層的高功率短時(shí)間碳涂層。智能功率控制結(jié)合脈沖蒸發(fā),自動(dòng)百葉窗后面的脫氣和薄膜厚度監(jiān)控功能,可提供準(zhǔn)確的層厚度,并避免了任何可能引起表面不均勻的火花。
可選配的GD-010輝光放電系統(tǒng)可以快速安裝,以通過(guò)空氣,氬氣或其他專用氣體等離子體進(jìn)行表面處理。例如,可以使碳膜親水。由于可以按順序進(jìn)行碳涂層和輝光放電處理,因此無(wú)需“破壞”真空條件和更換工藝頭,因此極大地簡(jiǎn)化了此過(guò)程。安裝在CT-010中的本機(jī)與所有樣品臺(tái)兼容。
HEAD真空儲(chǔ)物箱 HS-010
HS-010真空儲(chǔ)物箱可讓您為CCU-010緊湊型涂層裝置保留第二個(gè)涂層頭,一個(gè)額外的行星或旋轉(zhuǎn)工作臺(tái),并且始終可以在真空下清潔所有濺射靶材和碳絲。使用CCU-010可用的抽氣統(tǒng),可連接至基本單元的集成抽氣管線將儲(chǔ)物箱向下抽至真空。另外,也可以輕松地連接一臺(tái)外部真空泵。 舒適的手動(dòng)鎖定和排氣閥允許對(duì)儲(chǔ)物箱進(jìn)行獨(dú)立的泵和排氣控制。附加的標(biāo)準(zhǔn)真空室有助于將碳涂層與金屬沉積完全分離,從而有效避免交叉污染。
刻蝕裝置 ET-010
對(duì)于樣品預(yù)處理或后處理以及涂層工藝,蝕刻裝置可將等離子體施加到基材上。使用該附件,可以選擇氬氣,額外的蝕刻氣體或環(huán)境空氣作為工藝氣體。這樣可以在涂覆之前清潔樣品,并增加薄膜的附著力。
另外,有可能在涂覆之后通過(guò)等離子體處理來(lái)改變涂覆樣品的表面性能。利用空氣等離子體,可以將薄碳層從疏水性轉(zhuǎn)變?yōu)橛H水性??烧{(diào)的過(guò)程壓力范圍為2E-1mbar至1mbar,等離子電流為10至50mA。
COATING-L數(shù)據(jù)軟件
可以使用基于PC的Coating-LAB軟件查看包括圖形信息在內(nèi)的過(guò)程數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)包括壓力,電流,電壓,涂層速率,涂層厚度和涂層速率作為實(shí)時(shí)曲線。便捷的軟件升級(jí)和參數(shù)設(shè)置完善了此智能工具。
樣品臺(tái)
CCU-010提供了一個(gè)直徑為80mm的樣品臺(tái),該樣品臺(tái)插入了高度可調(diào)且可傾斜的樣品臺(tái)支架上??梢允褂脤S玫臉悠放_(tái)(選件)輕松替換此靜態(tài)標(biāo)準(zhǔn)臺(tái)。SS-010載物臺(tái)帶有兩個(gè)26x 76mm(分別為25 x 75mm)顯微鏡載玻片或一個(gè)52 x 76mm(分別為50 x 75mm)載玻片。由于采用了雙位膜厚監(jiān)測(cè)儀,因此兩種傳感器均可使用石英傳感器。旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)RS-010改善了平坦表面上的厚度均勻性,而行星驅(qū)動(dòng)工作臺(tái)PS-010與樣品傾斜相結(jié)合,可以均勻地涂覆在裂隙狀,波紋狀,波紋狀或非常球形的樣品上。