[文章導(dǎo)讀] （微納米力學(xué)系統(tǒng)）同時(shí)隨著材料設(shè)計(jì)的微量化、微電子行業(yè)集成電路結(jié)構(gòu)的復(fù)雜化，傳統(tǒng)材料力學(xué)性能測(cè)試方法已難以滿足微米級(jí)及更小尺度樣品的測(cè)試精度，不能夠準(zhǔn)確評(píng)估薄膜材料的強(qiáng)度指標(biāo)和壽命；

近年來，隨著工業(yè)的現(xiàn)代化、規(guī)?；?、產(chǎn)業(yè)化，以及高新技術(shù)和國(guó)防技術(shù)的發(fā)展，對(duì)各種材料表面性能的要求越來越高。（微納米力學(xué)系統(tǒng)）（點(diǎn)擊了解詳情）20世紀(jì)80年代，現(xiàn)代表面技術(shù)被國(guó)際科技界譽(yù)為最具發(fā)展前途的十大技術(shù)之一。薄膜、涂層和表面處理材料的極薄表層的物理、化學(xué)、力學(xué)性能和材料內(nèi)部的性能常有很大差異，這些差異在摩擦磨損、物理、化學(xué)、機(jī)械行為中起著主導(dǎo)作用，如計(jì)算機(jī)磁盤、光盤等，要求表層不但有優(yōu)良的電、磁、光性能，（微納米力學(xué)系統(tǒng)）而且要求有良好的潤(rùn)滑性、摩擦小、耐磨損、抗化學(xué)腐蝕、組織穩(wěn)定和優(yōu)良的力學(xué)性能。因此，世界各國(guó)都非常重視材料的納米級(jí)表層的物理、化學(xué)、機(jī)械性能及其檢測(cè)方法的研究。（微納米力學(xué)系統(tǒng)）同時(shí)隨著材料設(shè)計(jì)的微量化、微電子行業(yè)集成電路結(jié)構(gòu)的復(fù)雜化，傳統(tǒng)材料力學(xué)性能測(cè)試方法已難以滿足微米級(jí)及更小尺度樣品的測(cè)試精度，不能夠準(zhǔn)確評(píng)估薄膜材料的強(qiáng)度指標(biāo)和壽命；另外在材料微結(jié)構(gòu)研究領(lǐng)域中，材料研究尺度逐漸縮小，材料的變形機(jī)制表現(xiàn)出與傳統(tǒng)塊狀材料相反的規(guī)律，（微納米力學(xué)系統(tǒng)）以上趨勢(shì)要求測(cè)試儀器具有高的位置分辨率、位移分辨率和載荷分辨率，納米壓痕方法能夠滿足上述測(cè)試需求。（微納米力學(xué)系統(tǒng)）

現(xiàn)在，薄膜的厚度已經(jīng)做到了微米級(jí)，甚至于納米級(jí)，對(duì)于這樣的薄膜，用傳統(tǒng)的材料力學(xué)性能測(cè)試方法已經(jīng)無法解決。（微納米力學(xué)系統(tǒng)）納米壓痕試驗(yàn)方法是一種在傳統(tǒng)的布氏和維氏硬度實(shí)驗(yàn)基礎(chǔ)上發(fā)展起來的新的力學(xué)性能試驗(yàn)方法。（微納米力學(xué)系統(tǒng)）它通過連續(xù)控制和記錄樣品上壓頭加載和卸載時(shí)的載荷和位移數(shù)據(jù)。并對(duì)這些數(shù)據(jù)進(jìn)行分析而得出材料的許多力學(xué)性能指標(biāo)，壓痕深度可以非常淺，壓痕深度在納米范圍，（微納米力學(xué)系統(tǒng)）也可以得到材料的力學(xué)性能，這樣該方法就成為薄膜、涂層和表面處理材料力學(xué)性能測(cè)試的首選工具，如薄膜、涂層和表面處理材料表面力學(xué)性能測(cè)試等。（微納米力學(xué)系統(tǒng)）

納米粒子的表面原子所處的晶體場(chǎng)環(huán)境及結(jié)合能與內(nèi)部原子有所不同，（微納米力學(xué)系統(tǒng)）存在許多懸空鍵，具有不飽和性質(zhì)，因而極易與其他原子相結(jié)合而趨于穩(wěn)定，具有很高的化學(xué)活性。

當(dāng)顆粒細(xì)化時(shí)，粒子逐漸減小時(shí)，總表面積急劇增大，比表面積相應(yīng)的也急劇加大。由于表面原子數(shù)增多，原子配位不足及高的表面能，（微納米力學(xué)系統(tǒng)）使這些表面原子具有高的活性，極不穩(wěn)定，很容易與其他原子結(jié)合，而表現(xiàn)出很高的化學(xué)活性。

本篇關(guān)于微納米力學(xué)系統(tǒng)的文章出自北京歐倍爾，轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。