[文章導讀] 低氣壓等離子體發(fā)生器 一種低氣壓氣體放電裝置，一般由三部分組成：產(chǎn)生等離子體的電源、放電室、抽真空系統(tǒng)和工作氣（或反應氣）供給系統(tǒng)。
高頻等離子體發(fā)生器（點擊了解詳情）在工業(yè)中已有多方面的應用，特別是在等離子體化工、冶金和光學材料提純等方面。等離子體發(fā)生器還可制備超導材料，如用氫高頻等離子體還原釩－硅（或釩－鍺），鈮－鋁（或鈮－鍺）的氯化物蒸氣以制備超導材料。中國冶金、采礦企業(yè)中需處理的鈦礦石、含釩礦渣、磷礦石以及工業(yè)難熔廢料含稀有材料的礦渣很多，采用高頻等離子體發(fā)生器是頗有前途的冶煉手段，可從中煉出有用的金屬和稀有元素。
高頻等離子體發(fā)生器的功率輸出范圍為0.5～1兆瓦，效率為50%～75%，放電室中心溫度一般約高達7000～10000開。
低氣壓等離子體發(fā)生器 一種低氣壓氣體放電裝置，一般由三部分組成：產(chǎn)生等離子體的電源、放電室、抽真空系統(tǒng)和工作氣（或反應氣）供給系統(tǒng)。通常有四類：靜態(tài)放電裝置（、高壓電暈放電裝置、高頻（射頻）放電裝置和微波放電裝置。把被處理的固體表面或需要聚合膜層的基體表面置于放電環(huán)境中，由等離子體處理。由于低氣壓等離子體為冷等離子體，當氣壓為 133～13.3帕左右時，電子溫度高達10000開，而氣體溫度只有300開，既不致燒壞基體，又有足夠能量進行表面處理。 低氣壓等離子體發(fā)生器已日益廣泛應用于等離子體聚合、制備薄膜、刻蝕、清洗等表面處理工藝中。等離子體發(fā)生器成功的例子如：在半導體制作工藝中，采用氟里昂等離子體干腐蝕，用離子鍍法在金屬表面生成氮化鈦膜等。70年代以來，低氣壓等離子體發(fā)生器對非金屬固體（如玻璃、紡織品、塑料等）的表面處理及改性技術也有迅速發(fā)展。
等離子發(fā)生器的主要工作原理是將低電壓通過升壓電路升至正高壓及負高壓，利用正高壓及負高壓電離空氣（主要是氧氣）產(chǎn)生大量的正離子及負離子，負離子的數(shù)量大于正離子的數(shù)量（負離子的數(shù)量大約為正離子數(shù)量的1.5倍 ）。
等離子發(fā)生器同時產(chǎn)生的正離子與負離子在空氣中進行正負電荷中和的瞬間產(chǎn)生巨大的能量釋放，從而導致其周圍細菌結構的改變或能量的轉換，從而致使細菌死亡，實現(xiàn)其殺菌的作用。等離子發(fā)生器由于負離子的數(shù)量大于正離子的數(shù)量，因此多余的負離子仍然飄浮在空氣中，等離子發(fā)生器可以達到消煙、除塵、消除異味、改善空氣的品質，等離子發(fā)生器以促進人體健康的保健作用。
1、等離子發(fā)生器按等離子焰溫度分：
（1） 高溫等離子體等離子發(fā)生器：溫度相當于108~109K完全電離的等離子體，如太陽、受控熱核聚變等離子體。
（2）低溫等離子體等離子發(fā)生器：
熱等離子體：稠密高壓（1大氣壓以上），溫度103~105K，如電弧、高頻和燃燒等離子體。
冷等離子體： 電子溫度高（103~104K）、氣體溫度低,如稀薄低壓輝光放電等離子體、電暈放電等離子體、DBD介質阻擋放電等離子體、索梯放電等離子體等。
2、等離子發(fā)生器按等離子體所處的狀態(tài)：
（1）平衡等離子體等離子發(fā)生器：氣體壓力較高，電子溫度與氣體溫度大致相等的等離子體。如常壓下的電弧放電等離子體和高頻感應等離子體。
（2）非平衡等離子體等離子發(fā)生器：低氣壓下或常壓下，電子溫度遠遠大于氣體溫度的等離子體。如低氣壓下DC輝光放電和高頻感應輝光放電，大氣壓下DBD介質阻擋放電等產(chǎn)生的冷等離子體。
低溫等離子發(fā)生器的發(fā)生技術
·直流輝光放電等離子發(fā)生器
·低頻放電等離子發(fā)生器
